Среда, 18.12.2024, 06:26
Приветствую Вас Гость | RSS
Главная | | Регистрация | Вход
Меню сайта
Категории раздела
Железо
Мобильные новости
Гаджеты
ПК & Ноутбуки
Телевизоры
Фото и Видео
Технологии
Периферия
Мониторы
Технологии
Информационная Безопасность
Форма входа
Поиск
Календарь
«  Декабрь 2011  »
ПнВтСрЧтПтСбВс
   1234
567891011
12131415161718
19202122232425
262728293031
Статистика
Hi-Tech технологии
Главная » 2011 » Декабрь » 8 » Hynix анонсировала NAND-чипы поколения 1Xnm
23:42
Hynix анонсировала NAND-чипы поколения 1Xnm
На конференции IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) компания Hynix Semiconductor анонсировала новое поколение микросхем флеш-памяти, которое она именует как «Middle-1Xnm». Вероятно, подразумевается, что данные чипы будут выпускаться по проектным нормам 15 нм.
Серийное производство уже близко, ведь инженерам Hynix уже удалось решить некоторые ключевые проблемы, которые возникают при уменьшении размеров линий слов и разрядных линий вследствие перехода от 20-нм техпроцесса к 1Xnm. Сама компания обещает запустить массовый выпуск новых чипов во второй половине следующего года.
Пространство, в которое встраиваются управляющие затворы из поликристаллического кремния, становится слишком маленьким. В результате, усиливается интерференция между разрядными линиями. Для решения данной проблемы Hynix добавила технологический процесс, уменьшающий ширину плавающего затвора в направлении, параллельном линиям слов, и увеличивающий пространство для управляющих затворов. Это позволило уменьшить интерференцию на 20%.
Когда данные записываются, к управляющему и плавающему затворам, которые расположены близко друг к другу, прикладывается электрическое поле высокой напряженности. В результате, есть высокая вероятность утечки заряда через плавающий затвор. Для решения этой проблемы Hynix приняла две меры.
Во-первых, инженеры улучшили процесс формирования воздушного зазора в изолирующей плёнке, который разделяет соседние линии слов. В структуре чипа воздушный зазор занимает более 50% пространства между соседними линиями слов. Электрическое поле, прикладываемое между управляющим и плавающим затворами при записи данных, уменьшено на 20% по сравнению со структурой, в которой не предусмотрено формирование воздушного зазора.

Во-вторых, Hynix уменьшила проблемное электрическое поле благодаря подачи напряжения на линию слов, которая размещается за линией слов, в которую в данный момент идёт запись, на 2 В выше, чем напряжение обхода. Этот метод также позволяет увеличить скорость записи данных.
Кроме того, инженеры компании также уменьшили ток, необходимый для процесса чтения ячеек, и токи утечки. Этого удалось добиться благодаря усовершенствованию переходов сток-исток.
Категория: Железо | Просмотров: 376 | Добавил: Smit | Рейтинг: 0.0/0
Всего комментариев: 0
Добавлять комментарии могут только зарегистрированные пользователи.
[ Регистрация | Вход ]
Хостинг от uCozCopyright MyCorp © 2024